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2017년 1월 18일 공포되고 5월 1일 시행되는 개정된 대만 특허법에 의해, 종전 6개월이었던 공지예외주장 유예기간(Grace Period)이 12개월로 연장되고 관련된 요건들이 완화되었다.
대만 특허청은 이러한 개정 이유에 대해, 기업 및 학술기관의 활동으로 인해 공개된 발명에 대해서도 특허를 받을 수 있는 가능성을 보장하고, 특허출원 준비 기간을 충분히 확보하도록 하며, 기술의 공개 및 유통을 장려하기 위함이라고 밝히고 있다. 그리고 개정 시 미국, 일본, 한국의 관련 제도도 참고되었다.
금번 신규성 유예기간 관련 개정 내용의 요점은 다음과 같다.
1. 특허 및 실용신안의 신규성 유예기간을, 출원일 전 6개월에서 12개월로 연장
특허 및 실용신안 출원의 신규성 유예기간은 종전 6개월에서 12개월로 연장되나, 디자인 출원에 대해서는 6개월이다. 상기 개정 내용은, 2017년 5월 1일 출원되는 사건부터 적용된다.
2. 신규성 유예기간에 적용되는 공개 형태에 대해서도, 어떠한 공개라도 제한되지 않도록 완화
공개 주체 및 사유에 관하여, 개정 전에는 제3자에 의한 공개 및 출원인의 의사에 반하는 것에 한하였다. 그러나 개정법에 의하면 발명 내용을 공개하는 주체는 출원인 또는 제3자이고, 공개 사유도 출원인의 의사에 의한 것 및 반한 것 모두 포함한다. 즉 종전에 공개 형태 관련해서 적용되던, 실험에 의한 공지, 간행물에 의한 공지, 정부가 주관 또는 허가하는 박람회에만 제한되는 규정이 삭제되었다.
3. 신규성 유예 신청 관련 절차 요건을 완화
출원 시에 신규성 유예기간의 주장과 관련하여 별도의 성명 또는 관련 증거 제출 요건이 삭제되었다. 그러나 심사관이 실체심사 시에 상기 증거를 요구할 수 있으므로, 증거의 확보는 여전히 필요한 것으로 보인다.
4. 공지예외주장 비적용 대상
해당 출원이 출원인의 의사에 의해 대만 또는 외국의 국내법에 의한 특허출원의 공개공보로서 공개된 경우에는, 공지예외주장을 할 수 없고, 이러한 공개는 선행기술로서 사용된다.
대만 특허청은 특허법 개정의 후속조치로서, 심사기준의 관련 내용 개정을 진행하고 있다.
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